プログラム


ポスター発表10:00〜14:30
10:00〜10:20 ポスター掲示

10:20〜11:50 ポスター発表(奇数番号)

13:00〜14:30 ポスター発表(偶数番号)

発表番号

氏名

学年

所属

発表タイトル

P1

加藤佳苗

B4

東京農工大学

渡邊研

細胞培養足場の弾性率による細胞挙動制御に関する研究

P2

畑山博哉

B4

千葉大学

豊田研

遠心沈降法を利用したジャイアントベシクル凝集体の合成とレオロジー特性

P3

金尾美樹

B4

東京農工大学

荻野研

レジスト用表面改質剤を志向したフッ素系ブロック共重合体の合成と評価

P4

舩津加央里

B4

東京農工大学

荻野研

ポリフェニレンビニレンを主鎖とするグラフト共重合体の合成と発光特性の評価

P5

菊池達郎

B4

東京農工大学

荻野研

接合部位に燐光色素を有するブロック共重合体の合成とOLEDへの応用

P6

宮石裕子

B4

東京農工大学

荻野研

環状oligo(4-n-butyltriphenylamine)の合成と電子受容体との包接錯体の物性評価

P7

菅井直人

B4

東京工業大学

手塚研

クリックケミストリーを用いた二環および三環パドル型高分子の合成

P8

倉田 悠

B4

東京農工大学

山田研

アルキル配位子保護-金属ナノ粒子薄膜の作製と配位子脱離反応

P9

奥村慎治

B4

東京農工大学

山田研

集積型金属錯体を前駆体としたFeCo系磁性合金ナノ粒子の合成と磁気特性

P10

山口陽平

B4

東京農工大学

山田研

プルシアンブルー錯体ナノ粒子薄膜のRedox応答性

P11

山本慎太郎

B4

横浜国立大学

横山研

ベンゾフェノンを添加したポリスチレン薄膜の光誘起表面レリーフ形成

P12

黒澤忠法

B4

東京工業大学

上田研

トリフェニルアミン骨格を有するポリイミドの合成と高分子メモリへの応用

P13

筒井裕亮

B4

東京大学

酒井研

生体適合性ハイドロゲルの分解速度制御とDDSへの応用

P14

倉員麻奈美

B4

東京大学

酒井研

新規高強度ハイドロゲルの力学特性に対する架橋点間分子量の効果

P15

西健吾

B4

東京大学

酒井研

新規温度応答性スターポリマーの合成

P16

吉原直希

B4

東京農工大学

渡邊研

ヒンジ型架橋剛直性高分子ゲルの合成と力学特性評価

P17

田島脩平

B4

東京工業大学

上田研

鎖末端にアニリンを有するP3HTを利用したイオン結合性ブロック共重合体の合成

P18

岡本信之

B4

東京工業大学

石津研

結晶性ブロック鎖を一成分とする高分子ブラシの合成とヤヌス構造および熱的特性の解析

P19

佐藤崇

B4

横浜国立大学

山口研

二座β-アミノケトナト鉄(U)錯体を触媒としたスチレンのラジカル重合

P20

込谷祐樹

B4

東京農工大学

大野研

ゾル-ゲル法を利用したポリブタジエンゴム/シリカ複合体の作製

 


口頭発表14:40〜16:20

(質疑応答を含めて一人20分間)

発表番号

時間

氏名

学年

所属

発表タイトル

O-1

14:40-15:00

冨沢 昌代

M2

神奈川工科大学

岡部研

ポリブチルシアノアクリレート粒子内へのヘモグロビンのカプセル化

O-2

15:00-15:20

長谷川 雄紀

M1

(短縮)

東京農工大学

重原研

リグニン由来化合物"PDC"を骨格とするエポキシ接着剤の合成および金属への接着性評価

O-3

15:20-15:40

鈴木康夫

M2

東京工業大学

上田研

高屈折率高分子材料の開発

O-4

15:40-16:00

伊藤由明子

M2

東京工業大学

上田研

核酸認識デンドリマーの合成

O-5

16:00-16:20

斎藤悠太

M2

東京工業大学

上田研

高温熱処理を必要としない感光性耐熱ポリマーの開発

優秀賞発表 16451700

懇親会 1800


優秀発表賞

ポスター部門
P-8菅井直人(東工大手塚研究室)
P-11山本慎太郎(横国大横山研究室)

口頭発表部門(修士)
O-2長谷川雄紀(農工大重原研究室)