＜趣旨＞光メディア、カメラ、光ファイバなどの光機能媒体の需要は、年々増加の一途をたどっています。こうした状況下、次世代のフォトニクス材料を目指した開発競争が激化していることは言うまでもありません。従来概念を打ち破り、新しい機能や優れた特性を持つ材料を創出するためには、どのような設計・工夫が求められるのでしょうか。今回は、フォトニクス材料分野の第一線で活躍されている3名の先生方をお招きして、お話を頂戴することにしました。基礎から応用まで具体的な研究例と共に分かりやすく紹介していただく予定です。多くの方々の参加をお待ちしております。

主 催	高分子学会　関東高分子若手研究会
日 時	11月10日（土）13 : 30 ～ 18 : 10
会 場	東京工業大学 大岡山キャンパス 本館4階第1会議室 （東京都目黒区大岡山2-12-1）
交 通	東急目黒線、東急大井町線 大岡山駅より徒歩3分（交通詳細は東京工業大学ホームページ http://www.titech.ac.jp/about/campus/index.htmlをご覧ください）
講 演	13 : 30～13 : 35 開催趣旨説明 13 : 35～14 : 55「分子集合体電子機能材料の新展開」 山本 洋平 先生（筑波大学） 13 : 35～14 : 55 「光応答性液晶高分子の創製とソフトマターメカニクスへの展開」 宍戸 厚 先生（東京工業大学） 16:45 – 18:05「フォトニクスポリマーとFace-to-Faceコミュニケーション」 小池　康博 先生（慶應義塾大学）
参加要領	1. 参加費 （当日徴収）　①企業・大学2000円　②学生無料 2. 懇親会費 （当日徴収）　①企業・大学3,000円　②学生2,000円 3. 申込方法 氏名、所属、連絡先（e-mailまたは電話）を明記し、e-mailにて事前にお申込ください。 4. 申込締切 会場の都合上、参加者数が定員になった時点で締切ります。
申込先	〒152-8550 東京都目黒区大岡山2-12-1-S6-16 東京工業大学大学院理工学研究科　東原 知哉 TEL & FAX: 03-5734-2126 E-mail: higashihara.t.aa@m.titech.ac.jp