第65回湘北地区懇話会
第13回相模ケイ素･材料フォーラム
テーマ “高分子合成の新展開”
主 催 （公社）高分子学会関東支部／（公財）相模中央化学研究所
日 時 2018年6月29日（金）13:00～20:00
会 場 東京工業大学すずかけ台キャンパス 大学会館3F
（横浜市緑区長津田4259 H1/H2棟）
[講 演] 会場：大学会館3Fすずかけホール
L1 金属触媒の分子内移動を利用した共役系高分子の合成 横澤 勉（神奈川大工）
L2 希土類錯体触媒による極性−非極性オレフィンの共重合 候 召民（理化学研究所）
[ポスター発表] 会場：大学会館3F ラウンジ
[講 演] 会場：大学会館3Fすずかけホール
L3 原子移動ラジカル重合によるテレケリックポリアクリレートの工業化 中川佳樹（カネカ）
[懇親会] 会場：大学会館3F ラウンジ
[ポスター発表･プログラム]
P1 ヘキサアリールビスイミダゾールを主鎖に有する分子レゴブロック高分子を用いた共重合体の合成
（東京都市大院総合理工1･東京都市大院工2･東京都市大工3）○粕谷和樹1･岩田和真2･岩村 武1,3
P2 トリフェニルイミダゾール修飾マグネタイトナノ粒子の合成
（東京都市大院工1･東京都市大工2）○長田直樹1･岩村 武2
P3 HABIのフォトクロミズムとチオール類の影響
（東京都市大院総合理工1･東京都市大工2）○菅原沙希1･長田武大2･岩村 武1,2
P4 茶殻廃棄物を活用した多孔質有機−無機ポリマーハイブリッド
（東京都市大工1･東京都市大院総合理工2）○秋元雄太1･小林理沙1･岩村 武1,2
P5 水溶性含窒素高分子を用いたテンプレートミネラリゼーションによる炭酸カルシウムの合成
（東京都市大院総合理工1･東京都市大工2）○下郡嘉智1･岩村 武1,2
P6 アントシアニンを含有するpH応答性有機−無機ポリマーハイブリッドフィルムの合成
（東京都市大工1･東京都市大院工2）○黒澤菜奈穂1･森山崇弘1･宮坂哲哉1･岩村 武1,2
P7 セルロースナノファイバー/シリカハイブリッドの合成
（東京都市大工1･東京都市大院総合理工2）○浅井章宏1･金森知太1･岩村 武1,2
P8 アセチルセルロースとテトラメトキシシランを用いたセルロース/シリカハイブリッドの合成
（東京都市大工1･東京都市大院総合理工2）○小松滉明1･秋山研三1･岩村 武1,2
P9 メタロセン系超高分子量ポリエチレンフィルムの成形条件が溶融延伸挙動および冷却結晶化挙動に与える影響
（群大院理工1･東ソー2･JASRI/SPring-83）○清水由惟1･上野雅彦1･上原宏樹1･山延 健1･
大西拓也2･若林保武2･稲富 敬2･阿部成彦2･増永啓康3
P10 スチレンスルホン酸ナトリウム骨格をもつハイドロゲルの合成とその構造物性
（群大院理工1･東ソー･ファインケム2）○星野真里奈1･武田隼太1･永井大介1･米山 賢1･上原宏樹1･山延 健1･尾添真治2
P11 新規環状ポリオレフィンの製膜と延伸過程における構造変化
（群大院理工1･東工大化生研2･弘前大院理工3）○周藤康介1･奈良大樹1･澳塩朋輝1･奈良大樹1･上原宏樹1･山延 健1･
竹内大介2,3･小坂田耕太郎2
P12 新規親水化バイオポリエステル重合酵素の速度論解析
（東工大院物質理工）○原田 憲･柘植丈治
P13 バチルス属細菌由来ポリヒドロキシアルカン酸生合成遺伝子クラスターのモノマー供給酵素の機能解析
（東工大院物質理工1･北九州高専生産デザイン工2）〇木原崇博1･水野康平2･柘植丈治1
P14 低濃度水素と二酸化炭素からのバイオポリエステル微生物合成
（東工大院物質理工）〇山本真大･柘植丈治
P15 Biosynthesis of polyhydroxyalkanoates containing branch side-chain monomer derived from amino acid
（東工大院物質理工）〇Maierwufu Mierzati･Shoji Mizuno･Takeharu Tsuge
P16 熱応答性形状記憶ポリマーからなるナノシートの調整法の確立と物性評価
（東海大院工1･東海大マイクロ･ナノ研究開発センター2）○草柳夏美1･鎗野目健二1･青木拓斗1･中川 篤2･張 宏2･岡村陽介1,2
P17 経肺投与を指向した抗生剤担持生分解性微粒子の調製と物性評価
（東海大院工1･東海大マイクロ･ナノ研究開発センター2）○Pinyo Mekwatanakarn1･吉田翔太1･岡村陽介1,2
P18 有機官能基を選択的に導入可能な新規光分解性表面修飾剤の合成とその応用
（神奈川大院理）○猪狩拓真･山口和夫
P19 POSS部位を持つ光分解性シランカップリング剤による表面修飾とその性質
（神奈川大院理）○大野佑太･山口和夫
P20 ミクロ相分離構造を形成するAB型光分解性ブロック共重合体の合成
（神奈川大院理）○古谷和之･山口和夫
P21 異種活性部位を有する重合開始剤によるOne-potブロック共重合体合成
（東京都市大工）川田 浩一･竹内健一郎･○関口卓也･塩月雅士
P22 安定有機ラジカルを触媒とするオレフィン類の分子間[2+2]環化付加反応
（東京都市大院総合理工1･東京都市大工2）〇京兼周司1･渡邉元樹2･塩月雅士1,2
P23 窒素含有アリールメチルケトンの環化三重縮合反応を用いた光デバイス材料の創成
（東京都市大工）渡辺貴之･○大瀧啓人･塩月雅士
P24 オレフィン類のTEMPO直接置換反応による多様な重合開始剤の合成
（東京都市大院総合理工1･東京都市大工2）京兼周司1･〇渡邉元樹2･塩月雅士1,2
P25 ジアゼピン化合物の凝集誘起発光特性
（東京都市大院総合理工1･東京都市大工2）三河大起1･〇土井壮太2･村田大輔2･塩月雅士1,2
P26 アンモニアボラン/ポリマーハイブリッド材料の加熱による水素生成反応
（東京都市大院総合理工1･東京都市大工2）瀧澤雄也･〇劉 学仕2･塩月雅士1,2
P27 o -クロラニルを用いたポリクロロ化合物の合成と反応機構についての検討
（東京都市大工）○齊藤彰吾･チャイウォントーン プラッチャヤー･長畑宏樹･塩月雅士
P28 PEO鎖含有ポリイミドナノシートによる高気体透過性膜の表面改質
（東海大院工1･東海大マイクロ･ナノ研2）〇磯野 亨1･鈴木大士1･岡村陽介1,2･長瀬 裕1
P29 ホスホリルコリン基を有するポリウレタン共重合体の合成と生体適合性
（東海大院工1･東海大工2･東海大マイクロナノ研3）○宮下博壮1･野上祐貴2･海野将宇2･岡村 陽介1,3･長瀬 裕1,2
P30 フェニレンモノマーの非等モル下鈴木−宮浦重縮合における添加物による重合モードの変換
（神奈川大院工）○上川原タケル･杉田 一･太田佳宏･横澤 勉
P31 選択的鈴木−宮浦環化重合によるハロゲン部位を有する環状ポリフェニレンの合成とグラフト化
（神奈川大院工）○木村泰介･杉田 一･太田佳宏･横澤 勉
P32 鈴木−宮浦触媒移動型連鎖縮合重合における嵩高いホスフィン配位子を有するパラジウム触媒の分子内挙動
（神奈川大院工）○内田達也･太田佳宏･横澤 勉
P33 固相塩基を用いたポリノルボルネン担体上のアミノ酸モノマーの連鎖重縮合における自己縮合の抑制
（神奈川大院工）○亀山洸瑠･森光亜実･太田佳宏･横澤 勉
P34 エステル−エステル交換反応を利用したＡ2＋Ｂ2重縮合によるポリエステルの合成
（神奈川大院工）○加藤顕禎･小川由紀子･太田佳宏･横澤 勉
P35 非対称チエノイソインジゴを含む規則性ランダムP3HTの直接アリール化合成
（防衛大応化1･山形大院有機2）○上垣 薫1･中林千浩2･宮川晃誠2･小泉俊雄1･林 正太郎1
P36 ニキソメチレン型のアレン骨格を主鎖に持つ交差共役高分子の合成
（防衛大応化）○齊藤裕德･宮原 啓･林 正太郎･小泉俊雄･山本進一
P37 繊維構造設計に基づくエラスティックπ結晶の創製とその機械･光物性
（防衛大応化）○三影昇平･山本進一･小泉俊雄･林 正太郎
P38 三成分重縮合によるイミダゾール骨格を有する高分子の合成と機能性材料への応用
（東工大院物質理工）○曽我 進･坂田 誠･西山寛樹･稲木信介･冨田育義
P39 ホスホリルアニオン部位をもつ反応性高分子を経由するリン原子を含有する各種機能性π共役ポリマーの合成
（東工大院物質理工）○林 優美子･青田紘和･西山寛樹･稲木信介･冨田育義
P40 Synthesis of end-phosphole polymers by organocatalyzed living radical polymerization
（東工大院物質理工）○Feng Zheng･Chen-gang Wang･Hiroki Nishiyama･Shinsuke Inagi･Ikuyoshi Tomita
P41 Synthesis of Titanafluorene and Its Transformation to Heterofluorene Derivatives
（東工大院物質理工）○Alvin Tanudjaja･Hiroki Nishiyama･Shinsuke Inagi･Ikuyoshi Tomita
P42 凝集誘起発光特性を有するジメチレンシクロブタンをビルディングブロックとしたπ共役ポリマーの合成と光学特性
（東工大院物質理工）○福井健太･江口 裕･西山寛樹･稲木信介･冨田育義
参加要領
1) 定員200名程度 2) 講演会参加費 相模中研関係者および賛助会社員／高分子学会正会員／学生：無料、一般（但し所属企業が法人会員の場合は無料）：3,000円（当日徴収） 3) 懇親会参加費 相模中研関係者および賛助会社員：無料、高分子学会正会員／学生：1,000円、一般（但し所属企業が法人会員の場合は1,000円）：3,000円（当日徴収） 4) 申込方法 氏名、勤務先、連絡先、種別（相模中研／賛助会社／正会員番号／学生／一般）、懇親会出欠を明記の上、E-mailでお申し込み下さい。定員になり次第〆切 5) 申込先・連絡先 公益財団法人相模中央化学研究所 高分子化学グループ 秋山映一
FAX: 0467-77-4113 E-mail: akiyama@sagami.or.jp （当日連絡先： TEL: 045-924-5413 東工大物質理工学院応用化学系 冨田育義）